近日，一则新闻在各大视频平台广为流传，称清华大学EUV项目将ASML的光刻机做大，并实现光刻机国产化。 并表示，该项目已在雄安新区实施。

对此，中国电子工程设计院有限公司（以下简称中国电子院）9月18日发表声明称，该项目并非网上报道的国内光刻机厂，而是北京高能同步加速器厂。辐射源项目（HEPS）。

北京高能同步辐射光源项目位于北京怀柔雁栖湖畔。 是“十三五”期间重大科技基础设施。 它是我国第一个高能同步辐射光源，也是世界上最亮的第四代同步辐射光源之一。 一。 该项目早在2019年就开工建设，预计2025年底投入使用。

北京高能同步辐射光源项目实景照片

HEPS 有何用途？ 它的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV，然后将其注入周长1360米的存储环中，并保持其以接近光速的速度运行。 当电子束穿过存储环不同位置的偏转磁铁或各种插入物时，会沿偏转轨迹的切线方向释放出稳定的、高能量、高亮度的光，这就是同步辐射。

中国电子学会解释说，HEPS可以看作是一种超精密、超高速、穿透力强的巨型X射线机。 它产生的小光束可以穿透材料并从分子和原子深处进行三维扫描。 HEPS是大规模、多维度地观察微观世界，它是一个进行科学实验的大型科学装置，而不是一个在线光刻机工厂。

中国电子学会表示，该项目由国家勘察设计大师、国投集团首席科学家楼宇领衔。 中国电子学会多个技术研究和设计团队通力协作，攻克了从项目可行性研究到项目实施的多项技术和技术难题。 工艺上的困难。 目前，高能同步辐射光源配套工程已全面竣工。

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